发明名称 光学三维结构测量装置及其结构信息处理方法
摘要 本发明公开了一种光学三维结构测量装置,该光学三维结构测量装置包括:光学三维结构信息存储装置(91),用于存储光学三维结构信息;特定层提取装置(121),用于比较存储在光学三维结构信息存储装置中的光学三维结构信息的信息值与预定阈值,并将等于或大于预定范围的区域作为测量目标的特定层区提取,其中等于或大于预定阈值的光学三维结构信息的信息值在所述区域中连续;遗漏区提取装置(122),用于将特定层区中光学三维结构信息的信息值小于预定阈值的区域作为遗漏区提取;遗漏区范围计算装置(123),用于计算遗漏区的范围的大小;以及感兴趣区分类装置(124),用于比较遗漏区的范围的大小与多个预定范围确定参考值,并将遗漏区分类成多种类型的感兴趣区。
申请公布号 CN102355861A 申请公布日期 2012.02.15
申请号 CN201080012574.0 申请日期 2010.03.03
申请人 富士胶片株式会社 发明人 寺村友一
分类号 A61B10/00(2006.01)I;A61B1/00(2006.01)I;A61B1/04(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I;G01N21/17(2006.01)I 主分类号 A61B10/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 汤雄军
主权项 一种光学三维结构测量装置,所述光学三维结构测量装置在具有层结构的测量目标的叠层的深度方向上引导测量光,并对所述测量光的光轴进行二维扫描以获得所述测量目标的光学三维结构信息,所述光学三维结构测量装置包括:光学三维结构信息存储装置,用于存储所述光学三维结构信息;特定层提取装置,用于比较存储在所述光学三维结构信息存储装置中的光学三维结构信息的信息值与预定阈值,并将等于或大于预定范围的区域作为所述测量目标的特定层区提取,其中等于或大于所述预定阈值的所述光学三维结构信息的信息值在等于或大于预定范围的所述区域中连续;遗漏区提取装置,用于将所述特定层区中的所述光学三维结构信息的信息值小于所述预定阈值的区域作为遗漏区提取;遗漏区范围计算装置,用于计算所述遗漏区的范围的大小;以及感兴趣区分类装置,用于比较所述遗漏区的范围的大小与多个预定范围确定参考值,并将所述遗漏区分类成多种类型的感兴趣区。
地址 日本国东京都