溅射涂覆基片的制造方法、磁控管源和具有这种源的溅射室

摘要

在不对称不平衡长程磁控管磁场图案上产生和使用一种磁控管源、一种磁控管处理室和一种制造具有真空等离子体处理过的表面的基片的方法，该不对称不平衡长程磁控管磁场图案沿着基片表面被扫动，用于提高真空等离子体处理过的基片表面处的离子密度。长程磁场达到基片表面，平行于基片表面的磁场分量为至少0.1高斯、并且优选地在1和20高斯之间。等离子体处理可以例如是溅射涂覆、或蚀刻。

主权项

一种制造具有真空等离子体处理过的表面的基片的方法，该方法包括以下步骤：●提供具有靶溅射表面的靶；●提供至少一个具有基片表面的基片，所述基片远离所述靶溅射表面并与所述靶溅射表面相对；●在所述靶溅射表面和所述基片表面之间的体积中产生磁场图案，该磁场图案是a)磁控管磁场图案，该磁控管磁场图案在朝着所述靶溅射表面的方向上看形成封闭环，并且平行于所述靶溅射表面看形成从一个磁极的外部区域到另一个磁极的内部区域的隧道状弧形，因而，通过垂直于所述靶溅射表面的磁场的零分量的封闭轨迹，相对于所述外部区域来限定所述内部区域；b)不平衡长程磁场图案，通过相对于沿着所述内部区域的磁通量增加沿着所述外部区域的磁通量来非对称地产生该不平衡长程磁场图案，因此，到达基片表面的所述长程磁场具有至少为0.1高斯的、平行于所述基片表面的磁场分量，●在所述磁场图案中产生等离子体放电；●等离子体处理所述基片表面，因此●沿着所述基片表面扫过所述不平衡长程磁场图案；以及提供具有围绕靶轴呈圆形的靶溅射表面的所述靶；围绕环中心轴圆形地产生由所述磁控管磁场图案形成的所述封闭环；选择所述呈圆形的靶溅射表面的半径大于所述环的半径；提供所述环中心轴与所述靶轴的偏移；提供一个磁极的第一磁次级排列，具有朝着所述环中心轴的径向状延伸部分，第二磁次级排列远离所述第一磁次级排列并沿着所述第一磁次级排列，所述第一磁次级排列是从所述靶的边缘突出的外部磁次级排列。