| 摘要 |
Den foreliggende oppfinnelse vedrører en fremgangsmåte for fremstilling av triklorsilan ved reaksjon av silisium med HCL gass ved en temperatur mellom 250 °C og 1100 °C og ved et trykk mellom 0,5 og 30 atmosfærer i en fluidisert sengreaktor, i en omrørt sengreaktor eller i en fastsengreaktor, hvor silisium som tilføres til reaktoren inneholder mellom 40 og 10 000 ppm barium, og eventuelt mellom 40 og 10 000 ppm kobber. Oppfinnelsen vedrører videre silisium for bruk ved fremstilling av triklorsilan ved reaksjon av silisium med HCL gass inneholdende mellom 40 og 10 000 ppm barium og eventuelt 40 til 10 000 ppm av kobber og hvor resten unntatt normale forurensninger er silisium. |
