涂布显影装置、光阻图案形成装置、涂布显影方法、光阻图案之形成方法及记忆媒体

摘要

本发明之目的为将被处理基板之面内及被处理基板间之光阻图案的线宽以高精度地控制。;本发明提供一种涂布显影装置，具备：加热单元，具有能藉由多数加热器将多数加热区域各自独立地进行加热控制之加热板，藉由前述加热板，将曝光后、显影前之被处理装置予以加热；光学测定单元，对于涂布光阻液前之被处理基板的前述各加热区域所对应之区域，照射光而测定各区域之光学性质；记忆部，记忆着预先求出之被处理基板之底层膜的光学性质、加热器之加热温度，及与光阻图案之线宽的相关关系；控制机构，依据由前述光学测定单元所测定之被处理基板之底层膜之光学性质、光阻图案之线宽目标值及前述记忆部之相关关系，对各加热区域演算前述加热器之加热温度，并依据经过演算之加热温度，控制加热板各加热区域之温度。