| 摘要 |
在一种微影装置中，可藉由以下行动来提供一图案化设备相对于一支撑件之一滑动，该支撑件经建构以支撑该图案化设备：量测该支撑件相对于该微影装置之一第一结构的一位置；量测该图案化设备相对于该微影装置之一第二结构的一位置；自该支撑件之该所量测位置、该图案化设备之该所量测位置及该第一结构与该第二结构之相互位置确定该图案化设备之该位置与该支撑件之该位置之间的一相关性；及自该相关性导出该图案化设备相对于该支撑件之一滑动。该结构可包括一投影系统以投影一由该图案化设备所图案化之辐射光束。该投影系统可连接至一框架，诸如，该微影装置之一度量学框架。 |
