| 摘要 |
Es wird eine Pulslaser-Verarbeitungsvorrichtung bereitgestellt, die eine stabile Mikroherstellung der Oberfläche eines großen Ziel-Verarbeitungsmaterials und einer Vergrößerung der Geschwindigkeit der Mirkoherstellung ermöglicht. Die Pulslaser-Verarbeitungsvorrichtung umfasst eine Referenztakt-Oszillationsschaltung, die ein Taktsignal erzeugt, einen Laser-Oszillator, der einen Pulslaserstrahl synchron mit dem Taktsignal emittiert, einen Laser-Scanner, der einen Pulslaserstrahl nur in einer eindimensionalen Richtung synchron mit dem Taktsignal abtastet, eine Plattform, auf der das Ziel-Verarbeitungsmaterial platziert werden kann und die in einer Richtung bewegt wird, die orthogonal zu der eindimensionalen Richtung ist, und einen Pulswähler, der bereitgestellt wird, in einem optischen Pfad zwischen dem Laser-Oszillator und dem Laser-Scanner, und der eine Weitergabe und eine Blockierung des Pulslaserstrahls synchron mit dem Taktsignal schaltet. |
