发明名称 涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法
摘要 本发明提供一种涂覆设备的真空室系统和利用该真空室系统的涂覆方法,所述涂覆方法防止间歇涂覆中的涂覆溶液的吸引现象,使得涂覆的不合格率降低,从而提高了产品质量。在一个实施例中,涂覆设备的真空室系统包括连接到涂覆设备的涂覆溶液出口的真空室。声压产生单元连接到真空室的一个区域,以产生声压。缓冲罐设置在真空室和声压产生单元之间。在真空室系统中,还在真空室和缓冲罐之间设置控制单元。控制单元控制空气使空气被选择性地吸入真空室和声压产生单元中或者与真空室和声压产生单元阻断。
申请公布号 CN102343321A 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN201110087238.9 申请日期 2011.04.02
申请人 三星SDI株式会社 发明人 金泰成
分类号 B05C11/10(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I 主分类号 B05C11/10(2006.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 韩明星;王青芝
主权项 一种涂覆设备的真空室系统,该真空室系统包括:真空室,连接到涂覆设备的涂覆溶液出口;声压产生单元,连接到真空室的一个区域,以产生声压;缓冲罐,设置在真空室和声压产生单元之间,其中,还在真空室和缓冲罐之间设置控制单元,控制单元控制空气使空气被选择性地吸入真空室和声压产生单元中或者与真空室和声压产生单元阻断。
地址 韩国京畿道龙仁市