| 发明名称 | 用于低温沉积钌的组合物和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于沉积钌的组合物和方法。将包含四氧化钌RuO4的组合物用作前体溶液608，以通过ALD、等离子体增强沉积和/或CVD来涂覆基片400。可使用定期的等离子致密化。 | ||
| 申请公布号 | CN102348829A | 申请公布日期 | 2012.02.08 |
| 申请号 | CN201080011538.2 | 申请日期 | 2010.01.19 |
| 申请人 | 威科仪器有限公司 | 发明人 | A·帕兰杰佩;V·V·瓦茨;R·布贝尔 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 王磊;过晓东 |
| 主权项 | 化学组合物，其包含：第一溶剂；第二溶剂；以及在所述第一溶剂和第二溶剂中的浓度大于1.0重量％的四氧化钌(RuO4)。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||