发明名称 一种真空蒸镀装置
摘要 本实用新型提供一种真空蒸镀装置,包括:蒸发源;用于移动及承载基板的基板驱动机构,所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域;用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构,所述掩模板位于所述基板下方,所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同;蒸镀挡板,位于所述掩模板下方,能够形成与所述掩模板结构相匹配的蒸镀气体透过区;用于移动及承载所述蒸镀挡板的挡板驱动机构。本实用新型可提高蒸镀薄膜厚度的均匀性、降低掩模板尺寸,从而实现对大尺寸基板的真空蒸镀。
申请公布号 CN202139291U 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN201120238890.1 申请日期 2011.07.07
申请人 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 发明人 沐俊应;刘光海
分类号 C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/24(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 黄灿;赵爱军
主权项 一种真空蒸镀装置,其特征在于,包括:蒸发源;用于移动及承载基板的基板驱动机构,所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域;用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构,所述掩模板位于所述基板下方,所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同;蒸镀挡板,位于所述掩模板下方,能够形成与所述掩模板结构相匹配的蒸镀气体透过区;用于移动及承载所述蒸镀挡板的挡板驱动机构。
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