发明名称 |
一种真空蒸镀装置 |
摘要 |
本实用新型提供一种真空蒸镀装置,包括:蒸发源;用于移动及承载基板的基板驱动机构,所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域;用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构,所述掩模板位于所述基板下方,所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同;蒸镀挡板,位于所述掩模板下方,能够形成与所述掩模板结构相匹配的蒸镀气体透过区;用于移动及承载所述蒸镀挡板的挡板驱动机构。本实用新型可提高蒸镀薄膜厚度的均匀性、降低掩模板尺寸,从而实现对大尺寸基板的真空蒸镀。 |
申请公布号 |
CN202139291U |
申请公布日期 |
2012.02.08 |
申请号 |
CN201120238890.1 |
申请日期 |
2011.07.07 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
沐俊应;刘光海 |
分类号 |
C23C14/24(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/24(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
黄灿;赵爱军 |
主权项 |
一种真空蒸镀装置,其特征在于,包括:蒸发源;用于移动及承载基板的基板驱动机构,所述基板的表面分成若干个蒸镀子区域;用于移动及承载掩模板的掩模板驱动机构,所述掩模板位于所述基板下方,所述掩模板的图形区尺寸与所述蒸镀子区域尺寸相同;蒸镀挡板,位于所述掩模板下方,能够形成与所述掩模板结构相匹配的蒸镀气体透过区;用于移动及承载所述蒸镀挡板的挡板驱动机构。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |