发明名称 | 抗污涂层之涂布设备 | ||
摘要 | 抗污涂层之涂布设备,包含上料站、数个真空腔室及常压涂布站。上料站用以承载并传送载盘与其上之工件。真空腔室包含降压腔室、电浆辅助化学气相沉积腔室及升压腔室。降压腔室与上料站串接。降压腔室用以接收来自上料站之载盘与工件,且将腔室压力降至真空。电浆辅助化学气相沉积腔室用以接收来自降压腔室之载盘与工件、及在工件上形成中间层。升压腔室用以接收来自电浆辅助化学气相沉积腔室之载盘与工件,及将腔室压力提升至真空腔室外之压力。常压涂布站用以接收来自升压腔室之载盘与工件、及在中间层上形成抗污涂层。 | ||
申请公布号 | TWM522080 | 申请公布日期 | 2016.05.21 |
申请号 | TW105200755 | 申请日期 | 2016.01.19 |
申请人 | 馗鼎奈米科技股份有限公司 | 发明人 | 徐逸明;黄世明;杨爲翔 |
分类号 | B05C5/00(2006.01) | 主分类号 | B05C5/00(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 李世章;秦建谱 | |
主权项 | 一种抗污涂层之涂布设备,适用以在一载盘上之至少一工件镀覆一抗污涂层,该抗污涂层之涂布设备包含:一上料站,配置以承载并传送该载盘与位于该载盘上之该至少一工件;复数个真空腔室,该些真空腔室彼此串接,其中该些真空腔室包含:一降压腔室,与该上料站串接,其中该降压腔室配置以接收来自该上料站之该载盘与该至少一工件、以及将该降压腔室之一腔室压力降至真空;一电浆辅助化学气相沉积腔室,配置以接收来自该降压腔室之该载盘与该至少一工件、以及在该至少一工件上形成一中间层;以及一升压腔室,配置以接收来自该电浆辅助化学气相沉积腔室之该载盘与该至少一工件、以及将该升压腔室之一腔室压力提升至该些真空腔室外之压力;以及一常压涂布站,其中该常压涂布站配置以接收来自该升压腔室之该载盘与该至少一工件、以及于该至少一工件上之该中间层上形成一抗污涂层。 | ||
地址 | 台南市永康区亚太工业区中正路279巷21弄59号 |