发明名称 金属-绝缘体-金属电容器及其制造方法
摘要 本发明披露了一种具有快速频率特性的金属-绝缘体-金属(MIM)电容器及其制造方法。本发明所披露的MIM电容器可以包括第一金属间绝缘膜,在第一金属间绝缘膜上方形成的下部金属层,在下部金属层周围形成的第二金属间绝缘膜和在下部金属层上方形成的第三金属间绝缘膜。第一电容器和第二电容器可以形成在部分第三金属间绝缘膜上方,第二电容器层压在第一电容器上方以形成并联结构,在该并联结构中第一电容器和第二电容器并联连接。
申请公布号 CN101378057B 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN200810213905.1 申请日期 2008.08.28
申请人 东部高科股份有限公司 发明人 姜明一
分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L27/08(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I;H01L21/82(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 北京博浩百睿知识产权代理有限责任公司 11134 代理人 宋子良;张奇巧
主权项 一种金属‑绝缘体‑金属电容器,包括:第一金属间绝缘膜;下部金属层,形成于所述第一金属间绝缘膜上方;第二金属间绝缘膜,形成于所述下部金属层周围;第三金属间绝缘膜,形成于所述下部金属层上方;第一电容器下部金属层、第一电容器绝缘膜、第一电容器上部金属层和第一覆盖层,顺序地形成于所述第三金属间绝缘膜的一个部分上方;第一层间绝缘膜、第四金属间绝缘膜和第二层间绝缘膜,顺序地形成于包括所述第一覆盖层的所述第三金属间绝缘膜上方;第二电容器下部金属层,延伸穿过所述第二层间绝缘膜和所述第一覆盖层以便所述第二电容器下部金属层连接至所述第一电容器上部金属层;第一钝化膜,形成于所述第二电容器下部金属层上方;第二电容器上部金属层,形成于所述第一钝化膜的一个部分上方,并且在布置了所述第二电容器下部金属层的区域中延伸穿过所述第一钝化膜以便所述第二电容器上部金属层连接至所述第二电容器下部金属层,所述第一电容器下部金属层、所述第一电容器绝缘膜和所述第一电容器上部金属层构成第一电容器,而所述第二电容器下部金属层、所述第一钝化膜和所述第二电容器上部金属层构成第二电容器,其中所述第二电容器层层压在所述第一电容器上方,以形成并联结构,在所述并联结构中所述第一电容器和所述第二电容器并联连接;以及第二钝化膜至第四钝化膜,顺序地形成于包括所述第二电容器上部金属层的所述第一钝化膜上方。
地址 韩国首尔