低辐射镀膜玻璃的制造方法及其所用的镀膜溶液

摘要

本发明提供一种低辐射镀膜玻璃的制造方法及其所用的镀膜溶液。该镀膜溶液由锡源、氟源、活化剂、添加剂、溶剂按一定重量百分比配置组成；镀膜时先将镀膜溶液输送到镀膜装置，以干燥、净化的并具有一定压强的压缩空气作为雾化气，在雾化气带动下，将镀膜溶液喷涂到移动的保持一定温度范围的热的玻璃板表面，镀膜废料经排气系统抽掉；镀膜结束后，移动的玻璃板经退火、在线检测、切割、下片、包装等，即可制成低辐射镀膜玻璃的最终产品。

主权项

一种低辐射镀膜玻璃的制造方法，包括如下步骤：1)将镀膜溶液输送到镀膜装置喷枪，所述喷枪向浮法生产线的下游方向倾斜，与水平线夹角为30‑45°，所述的镀膜装置的喷口与玻璃板的垂直距离为30‑40mm；2)以干燥、净化的压缩空气作为雾化气，并且保持雾化气的压力为0.6‑0.75MPa；3)在雾化气带动下，将镀膜溶液喷涂到移动的热的玻璃板表面，玻璃板的温度控制在550‑625℃；4)浮法生产线的下游设有一个排气系统，镀膜废料经排气系统抽掉；5)移动的玻璃板经退火、在线检测、切割、下片、包装的工序成为最终产品，其特征在于：所用的镀膜溶液由下列组分按重量百分比组成：锡源15‑30％，所述锡源来自二氯化锡、四氯化锡、二丁基氧化锡、三丁基氟化锡、二丁基二氟化锡、三氟化丁基锡、三丁基氯化锡、二丁基二氯化锡、丁基三氯化锡、三氯化甲基锡、二氯化二甲基锡中的一种或几种；氟源2‑10％，所述氟源来自氢氟酸、三氟乙酸、氟化铵、氟化镁、氟化钙、氟化钾、氟化氨、氟氢化氨中的一种或者几种；活化剂0.5‑2％，所述活化剂为多羟基嵌段共聚物；添加剂2‑7％，所述添加剂来自锌的氯化物、镁的氯化物、镍的氯化物、铋的氯化物、锆的氯化物、锰的氯化物、铬的氯化物、铈的氯化物中的一种或者几种；溶剂60‑80％，所述溶剂来自苯、甲苯、甲醇、乙醇、丙醇、丙酮、二甲基甲酰胺、卤代甲烷、乙酸乙酯、甲酸乙酯以及去离子水的一种或者几种。