发明名称 母基底材料、膜形成区域的配设方法、滤色器的制造方法
摘要 本发明提供一种能减小对液滴喷出装置的基板的方向偏移对命中位置的位置偏移带来的影响的母基底材料、膜形成区域的配设方法、滤色器的制造方法。母基底材料具有多个包含1以上的膜形成分区的膜形成区域,其特征在于,包括:具有第一膜形成分区的第一膜形成区域;具有比第一膜形成分区的膜的形成面积更小的第二膜形成分区的第二膜形成区域;在配置膜材料时使用的配置装置中设置的状态下,对于在配置装置中具有的转动装置的转动中心,在比第一膜形成区域更靠近的位置配置第二膜形成区域。
申请公布号 CN101515082B 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN200910007390.4 申请日期 2009.02.17
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 坂本贤治
分类号 G02F1/1335(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I 主分类号 G02F1/1335(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 李贵亮
主权项 一种母基底材料,具有多个包含1个以上的膜形成分区的膜形成区域,包括:具有第一膜形成分区的第一膜形成区域;具有膜形成面积比第一膜形成分区更小的第二膜形成分区的第二膜形成区域;在所述母基底材料被设置在配置膜材料时使用的配置装置中的状态下,在比所述第一膜形成区域更靠近在所述配置装置中具有的转动装置的转动中心的位置配设所述第二膜形成区域。
地址 日本东京