发明名称 光波导薄膜和光基片以及它们的制造方法
摘要 本发明提供一种光波导薄膜和光基片以及它们的制造方法。光波导薄膜配备:具有粘接功能的包层和被该包层覆盖的芯层。
申请公布号 CN101359068B 申请公布日期 2012.02.08
申请号 CN200810144282.7 申请日期 2008.07.30
申请人 日东电工株式会社 发明人 程野将行;长崎国夫;山口美穗;井口伸儿
分类号 G02B6/122(2006.01)I;G02B6/13(2006.01)I 主分类号 G02B6/122(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人 张鑫
主权项 一种光波导薄膜,其特征在于,配备:具有粘接功能的包层和被所述包层覆盖的芯层,其中,在合层压400千巴、温度130℃装贴到硅片时,以剥离速度50毫米/分对硅片表面90度的方向剥离时的阻力,为0.1牛顿/20毫米以上。
地址 日本大阪府