| 发明名称 | 超洁净微环境装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及半导体晶圆制造领域，公开了一种超洁净微环境装置，包括装置本体、风机、气孔层和过滤板，所述气孔层上布置有多个气孔，所述风机设置在所述装置本体内部的侧壁上，所述气孔层设置在所述装置本体的内部，所述过滤板设置在所述装置本体的底面上。本发明将风机设置于装置本体的侧面，使得进风方式为侧面进风，因此装置适合于在双层或多层工艺腔室半导体晶圆制造设备中使用；通过特殊的气孔形状及排布设计，使得装置能够为半导体晶圆制造设备提供稳定、均匀的垂直层流。 | ||
| 申请公布号 | CN102347259A | 申请公布日期 | 2012.02.08 |
| 申请号 | CN201110305132.1 | 申请日期 | 2011.10.10 |
| 申请人 | 北京七星华创电子股份有限公司 | 发明人 | 赵宏宇;吴仪 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;B01D46/10(2006.01)I;B01D46/42(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
| 主权项 | 一种超洁净微环境装置，其特征在于，包括装置本体、风机、气孔层和过滤板，所述气孔层上布置有多个气孔，所述风机设置在所述装置本体内部的侧壁上，所述气孔层设置在所述装置本体的内部，所述过滤板设置在所述装置本体的底面上。 | ||
| 地址 | 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2号楼2层 | ||