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发明名称 ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
摘要
申请公布号 EP2414897(A1) 申请公布日期 2012.02.08
申请号 EP20100758922 申请日期 2010.03.30
申请人 FUJIFILM CORPORATION 发明人 KATO, TAKAYUKI;SAEGUSA, HIROSHI;IWATO, KAORU;HIRANO, SHUJI;IIZUKA, YUSUKE;YAMAGUCHI, SHUBEL;SHIBUYA, AKINORI
分类号 G03F7/039;G03F7/004;G03F7/075;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
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