| 发明名称 | 低折射率被膜形成用涂布液及其制造方法以及防反射材料 | ||
| 摘要 | 本发明提供可在较低温度下固化而形成高硬度的耐擦伤性良好的具有低折射率的被膜的被膜形成用涂布及其制造方法，以及使用该被膜的防反射材料。低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，含有含氟有机基团与硅原子结合的聚硅氧烷(A)和碳数3～12的含氟胺化合物(B)，将它们溶于有机溶剂(C)而形成。 | ||
| 申请公布号 | CN101535430B | 申请公布日期 | 2012.02.08 |
| 申请号 | CN200780041914.0 | 申请日期 | 2007.11.13 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 谷好浩;元山贤一 |
| 分类号 | C09D183/08(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D183/02(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | C09D183/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 范征 |
| 主权项 | 低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，包含具备结合有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷(A)和碳数3～12的含氟胺化合物(B)，将它们溶于有机溶剂(C)而形成。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||