发明名称 |
度量衡校准晶圆 |
摘要 |
本发明公开了一种度量衡校准晶圆,包括晶圆本体,所述晶圆本体上排列有若干校准单元,每个校准单元具有一矩形区域、以及分布于该矩形区域四角处并用于定位该矩形区域的定位区域;每个矩形区域内,具有平行于其设定方向的两个相邻第一校准槽,两个相邻第一校准槽的深度和宽度均相同,所述深度用以在台阶高度的测量场景下进行测量校准;两个相邻第一校准槽之间的间距以及任一第一校准槽的宽度,用以在关键尺寸的测量场景下进行测量校准;所述设定方向为该矩形区域的长边方向或宽边方向。本发明的度量衡校准晶圆,实现了利用单片晶圆对多种测量场景下的多个尺寸进行测量校准,大大提高了校准晶圆使用的便利程度,降低了校准晶圆的使用成本。 |
申请公布号 |
CN102005436B |
申请公布日期 |
2012.02.08 |
申请号 |
CN200910194947.X |
申请日期 |
2009.09.01 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
吴瑞国;周欣洁;郝斐;苏国英 |
分类号 |
H01L23/544(2006.01)I;H01L21/66(2006.01)I |
主分类号 |
H01L23/544(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
牛峥;王丽琴 |
主权项 |
一种度量衡校准晶圆,包括晶圆本体,其特征在于:所述晶圆本体上排列有若干校准单元,每个校准单元具有一矩形区域、以及分布于该矩形区域四角处并用于定位该矩形区域的定位区域;每个矩形区域内,具有平行于其设定方向的两个相邻第一校准槽,两个相邻第一校准槽的深度和宽度均相同,所述深度用以在台阶高度的测量场景下进行测量校准;两个相邻第一校准槽之间的间距以及任一第一校准槽的宽度,用以在关键尺寸的测量场景下进行测量校准;所述设定方向为该矩形区域的长边方向或宽边方向。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |