| 摘要 |
水平な通口システム用の処理対象の平坦材料（８）を湿式化学処理する装置は、処理対象の材料（８）を第１の液体で処理する第１の処理モジュール（２、３、６）と処理対象の材料（８）を第２の液体で処理する第２の処理モジュール（５、７）とを有する。第１の処理モジュール（２、３、６）の第１の処理領域（１１、１７、４１）に第１の液体を滞留させるとともに第２の処理モジュール（５、７）の第２の処理領域（３１、５１）に第２の液体を滞留させるため、滞留手段（２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、３６、３８、４８、５８）が設けられている。処理対象の材料は、搬送構成（１６）により当該装置を通って搬送されるが、搬送構成（１６）は、第１の処理領域（１１、１７、４１）と第２の処理領域（３１、５１）との間で処理対象の材料（８）を直接移送する。 |
