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Eine Substratbearbeitungsvorrichtung umfasst eine Substratbühne zur Anbringung von zwei oder mehr Sueinheiten. Jede der Substratbühneneinheiten umfasst einen mittleren Fließweg zur Temperatursteuerung, um die Temperatur eines mittleren Abschnitts eines jeden der Substrate zu steuern, und einen umfänglichen Fließweg zur Temperatursteuerung, um die Temperatur eines umfänglichen Abschnitts eines jeden der Substrate zu steuern. Der mittlere Fließweg zur Temperatursteuerung und der umfängliche Fließweg zur Temperatursteuerung sind voneinander unabhängig gebildet. Die Substratbühne umfasst eine Temperatursteuerungsmedium-Einlassöffnung, um ein Temperatursteuerungsmedium in den umfänglichen Fließweg zur Temperatursteuerung einzubringen, und Temperatursteuerungsmedium-Auslassöffnungen, um das Temperatursteuerungsmedium aus dem umfänglichen Fließweg zur Temperatursteuerung abzugeben. Die Anzahl der Temperatursteuerungsmedium-Auslassöffnungen entspricht der Anzahl der Substrate.
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