一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法

摘要

本发明公开了一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法，适用于使用空间光调制器件作为图形发生器的无掩模光刻机，打开图形发生器需要使用的区域并使这些区域各像素单元采用同样的输出光强度参数或时间占空比，将该区域通过光刻系统对有光刻胶的基底进行曝光并显影，在不同的光源能量输出下获得一系列的曝光图形，根据不同能量下各自能够曝光打开的区域获得这些区域对应的能量计数，从而标定所有需要使用区域的达到曝光指标的能量值。它准确有效的高精度的曝光能量分布标定，能够轻易形成自动化的标定功能。

主权项

一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法，采用空间光调制器作为图形发生器，光源发出的光照射至空间光调制器，被空间光调制器反射，产生反射光，所述反射光通过远心投影成像系统，入射至表面覆有光刻胶并放置在平台上的基底上，其特征在于：打开空间光调制器中需要使用的多个区域，光源发出的光照射至空间光调制器上，被空间光调制器中所述多个区域反射至所述基底，移动平台，同时控制光源，使空间光调制器中所述多个区域的反射光的能量强度均匀变化，能量强度均匀变化的反射光入射至所述基底，并在所述基底上进行曝光形成多个与空间光调制器中的区域一一对应的打开区域，通过CCD相机对基底上曝光得到的多个打开区域进行拍摄，并将拍摄到的图像传送至计算机中处理；在计算机中利用图像处理软件，将基底上相邻能量强度各自对应的打开区域的图像进行相减运算，得到在相邻能量强度之间的区间段内刚好被曝光形成的打开区域，将所述打开区域再与空间光调制器中的区域对照，确定空间调制器中多个区域分别各自对应的能量强度区间，完成标定空间光调制器所使用的区域达到曝光指标的能量值。