| 发明名称 | 光刻设备 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备，包括：反应腔；位于反应腔内，用于在其上形成光掩膜层的卡盘；设置在反应腔内用于固定卡盘的固定盘，连接固定盘和卡盘并用于支撑卡盘的支撑柱，还包括：连接至固定盘，具有多个喷嘴的清洗装置。所述的光刻设备在反应腔内设置了清洗装置，在反应腔内产生污染物粒子之后，可以通过所述清洗装置清洗所述反应腔，避免了采用人工清洗造成的人力浪费，并且避免对人体产生伤害。 | ||
| 申请公布号 | CN102338987A | 申请公布日期 | 2012.02.01 |
| 申请号 | CN201010229247.2 | 申请日期 | 2010.07.16 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 郭勃琳 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;B08B3/02(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括：反应腔；位于反应腔内，用于在其上形成光掩膜层的卡盘；设置在反应腔内用于固定卡盘的固定盘，连接固定盘和卡盘并用于支撑卡盘的支撑柱，其特征在于，还包括：连接至固定盘，具有多个喷嘴的清洗装置。 | ||
| 地址 | 201203 上海市张江路18号 | ||