涂敷显影装置、涂敷显影方法和存储介质

摘要

本发明提供一种涂敷显影装置、涂敷显影方法和存储介质，在单位块发生异常、进行维修时，抑制涂敷显影装置的生产率降低且抑制处理块的设置面积。该涂敷显影装置具备：在层叠的前段处理用单位块和分别对应的层叠的后段处理用的单位块之间设置的、在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接用的涂敷处理用的交接部；在各段的涂敷处理用的交接部之间进行基板的搬送用的能够升降自由的设置的辅助移载机构；和分别在所述前段处理用的单位块、后段处理用的单位块上层叠的显影处理用的单位块。在各层间，交接基板，因此能够避免不能使用的单位块搬送基板。此外，显影用的单位块层叠在前段处理用的单位块和后段处理用的单位块上，因此抑制设置面积。

主权项

一种涂敷显影装置，将通过载体搬入到载体块的基板交接至处理块，该基板在该处理块中形成包括抗蚀剂膜的涂敷膜后，通过相对于所述处理块位于与载体块相反侧的接口块被搬送到曝光装置，对通过所述接口块返回的曝光后的基板在所述处理块中进行显影处理，并将其交接至所述载体块，该涂敷显影装置的特征在于，包括：a)所述处理块，该处理块包括：上下层叠多个前段处理用的单位块形成的部件，所述前段处理用的单位块具备：用于在基板上形成下层侧的防反射膜而供给药液的下层用的液处理模块；用于在所述防反射膜上形成抗蚀剂膜而供给抗蚀剂液的涂敷模块；对基板进行加热的加热模块；和用于在这些模块之间搬送基板，在从载体块侧向接口块侧延伸的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构；多个后段处理用的单位块，该后段处理用的单位块包括：在多个前段处理用的单位块的接口块侧与该前段处理用的单位块相邻地分别设置的、用于在形成有抗蚀剂膜的基板上形成上层侧的膜而供给药液的上层用的液处理模块；对基板进行加热的加热模块；用于对曝光前的基板进行清洁的清洁模块；和用于在这些模块之间搬送基板，在从载体块侧到接口块侧延伸的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构；在前段处理用的单位块和对应的后段处理用的单位块之间分别设置的、用于在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接的涂敷处理用的交接部；上下层叠多个具备向基板供给显影液的液处理模块、对基板进行加热的加热模块、和在从载体块侧向接口块侧延伸的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构的显影处理用的单位块而形成，相对于上下层叠多个所述前段处理用的单位块形成的部件在上下方向层叠形成的第一显影处理用的层叠块；上下层叠多个具备向基板供给显影液的液处理模块、对基板进行加热的加热模块、和在从载体块侧向接口块侧延伸的直线搬送路径上移动的单位块用的搬送机构的显影处理用的单位块而形成，相对于上下层叠多个所述后段处理用的单位块形成的部件在上下方向层叠而形成的第二显影处理用的层叠块；在第一显影处理用的层叠块的单位块、和与该单位块对应的第二显影处理用的层叠块的单位块之间分别设置的、用于在两单位块的搬送机构之间进行基板的交接的显影处理用的交接部；和用于在各段的涂敷处理用的交接部之间以及各段的显影处理用的交接部之间进行基板的搬送的、能够自由升降而设置的辅助移载机构，b)针对各单位块在载体块侧设置的、在各单位块的搬送机构之间进行基板的交接的搬入搬出用的交接部，c)用于从载体向与前段处理用的各单位块对应的搬入搬出用的所述交接部分配基板并进行交接，且从与显影处理用的各单位块对应的搬入搬出用的交接部使基板返回载体的第一交接机构；d)用于接收由所述处理块处理过的曝光前的基板，将曝光后的基板分配并交接给显影处理用的单位块的第二交接机构。