| 发明名称 | 一种单晶硅片的超声波清洗装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种单晶硅片的超声波清洗装置，包括清洗槽和搁置单晶硅片的框架，在清洗槽的侧壁上设有去离子水的进水口和出水口，在清洗槽内腔底部设有超声波振子；所述框架包括石英网格面和支架，所述石英网格面通过支架平置于清洗槽内，且石英网格面低于去离子水水平面并与清洗槽内腔底部存在间距。本实用新型提供的单晶硅片的超声波清洗装置，结构简单，能够增加单晶硅片清洗后的清洁度，并能够减少用水。 | ||
| 申请公布号 | CN202134514U | 申请公布日期 | 2012.02.01 |
| 申请号 | CN201120218174.7 | 申请日期 | 2011.06.26 |
| 申请人 | 江苏顺大半导体发展有限公司 | 发明人 | 倪云达;葛正芳;钱大丰 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;B08B3/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人 | 徐激波 |
| 主权项 | 一种单晶硅片的超声波清洗装置，其特征在于：该清洗装置包括清洗槽（1）和搁置单晶硅片的框架（2），在清洗槽（1）的侧壁上设有去离子水的进水口和出水口，在清洗槽（1）内腔底部设有超声波振子；所述框架（2）包括石英网格面和支架，所述石英网格面通过支架平置于清洗槽（1）内，且石英网格面低于去离子水水平面并与清洗槽（1）内腔底部存在间距。 | ||
| 地址 | 225653 江苏省扬州市高邮市天山镇工业园区 | ||