| 发明名称 | 基于二氧化锆的假体 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种制造氧化锆假体的方法，所述氧化锆被稳定化，所述方法包括以下步骤：a)在至少45MPa的压力下，将氧化锆粉末压实成期望形式的物体，b)将可蚀刻介质压紧到表面中，c)任选地将物体加工成最终形状，d)在高于1170℃的温度下烧结主体，以将氧化锆转变成四方晶体结构，以及e)使用氢氟酸蚀刻可蚀刻介质，以除去介质并提供微机械固位表面。本发明还涉及一种通过本方法制备的假体。 | ||
| 申请公布号 | CN102341060A | 申请公布日期 | 2012.02.01 |
| 申请号 | CN201080010261.1 | 申请日期 | 2010.03.04 |
| 申请人 | 南方佛斯卡专利公司 | 发明人 | 佩尔·沃特冯斯特耶恩 |
| 分类号 | A61C13/09(2006.01)I;A61C8/00(2006.01)I;C04B35/486(2006.01)I;C04B41/91(2006.01)I;C04B41/45(2006.01)I;C04B41/53(2006.01)I | 主分类号 | A61C13/09(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人 | 陶贻丰;郑霞 |
| 主权项 | 一种制造氧化锆假体的方法，所述氧化锆被稳定化，其特征在于，所述方法包括以下步骤：a)在至少45MPa的压力下，将氧化锆粉末压实成期望形式的物体，b)将可蚀刻介质压紧到表面中，c)任选地将所述物体加工成最终形状，d)在高于1170℃的温度下烧结所述主体，以将氧化锆转变成四方晶体结构，以及e)使用氢氟酸蚀刻所述可蚀刻介质，以除去所述介质并提供微机械固位表面。 | ||
| 地址 | 瑞典伦德 | ||