光学元件的抛光模及制备方法

摘要

本发明光学元件的抛光模属于光学元件在抛光过程中与被抛光物表面磨擦接触的模以及制备方法，尤其是硒化锌光学元件的抛光模。抛光模：由按重量比为500份的抛光沥青，和20～200份的氧化铝粉组成；抛光沥青是55#～82#抛光沥青，抛光沥青是最佳用美国环球光学有限公司生产的914CP抛光沥青即64#抛光沥青，氧化铝粉的粒度为0.50～2.00微米。制备步骤：加热熔化抛光沥青、混均、固化、开掘储磨料槽。本发明提供的抛光模对硒化锌光学元件抛光表面光洁度可达到10/5以上，明显高于美军标40/20的精度要求。

主权项

光学元件的抛光模，其特征在于按下述抛光沥青和氧化铝粉组成：抛光沥青种类  沥青软化温度  氧化铝粉粒度  沥青和氧化铝粉重量比55#           50℃～65℃    0.5微米       500∶100；64#           68℃～80℃    0.8微米       500∶50；73#           65℃～80℃    1.5微米       500∶150；82#           70℃～85℃    2微米         500∶200。