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发明名称 METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, PROCESSING DEVICE FOR PHOTOMASK SUBSTATE , AND THIN FILM PATTERNING METHOD
摘要
申请公布号 KR101109902(B1) 申请公布日期 2012.01.31
申请号 KR20100000415 申请日期 2010.01.05
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;G03F1/68;G03F1/80 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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