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发明名称 ENHANCED FOCUSED ION BEAM ETCHING OF DIELECTRICS AND SILICON
摘要
申请公布号 IL215672(D0) 申请公布日期 2012.01.31
申请号 IL20110215672 申请日期 2011.10.10
申请人 TIZA LAB, L.L.C. 发明人
分类号 H01L 主分类号 H01L
代理机构 代理人
主权项
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