| 摘要 |
1. Способ получения матрицы, используемой для получения микроструктурного рельефа на поверхности светорассеивающей панели, характеризующийся тем, что на первом этапе создают модель поверхности с требуемым мнкроструктурным рельефом путем нанесения на лист кислотостойкого материала адгезива с последующим размещением поверх него слоя из смеси фракций твердых кристаллических пород с прилеганием по крайней мере части частиц в этом слое друг к другу, затем на полученную модель поверхности с заданным рельефом наносят металлическое покрытие для создания электрического контакта по всему трехмерному профилю модели, после чего полученную таким образом заготовку загружают в качестве катода в гальваническую установку и выращивают металлический осадок по всей поверхности заготовки, впоследствии выращенный осадок отделяют от модели и придают форму с образованием металлической матрицы с заданным микроструктурным рельефом. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что металлическое покрытие на модель поверхности наносят вакуумным напылением металла, в частности до образования слоя металла 100-150 нм. ! 3. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что осаждение металла на поверхности заготовки проводят до образования осадка по поверхности модели толщиной порядка 100-300 мкм. ! 4. Способ по п.1 или 2, отличающийся тем, что металлическое покрытие на модели и металлический осадок выполняют из никеля. ! 5. Способ по п.3, отличающийся тем, что металлическое покрытие на модели и металлический осадок выполняют из никеля. ! 6. Матрица для получения микроструктурного рельефа на поверхности светорассеивающей панели, полученная любым из способов |
