| 发明名称 |
纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种纳米压印抗蚀剂，该纳米压印抗蚀剂包括以下组分：高支化低聚物，全氟基聚乙醚，甲基丙烯酸甲酯，以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂，具有热压温度低，有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单，成本较低，获得的纳米图形的图保真度好，分辨率高。 |
| 申请公布号 |
CN101923282B |
申请公布日期 |
2012.01.25 |
| 申请号 |
CN200910108044.5 |
申请日期 |
2009.06.09 |
| 申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 |
发明人 |
朱振东;李群庆;张立辉;陈墨 |
| 分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
一种纳米压印抗蚀剂，其特征在于：该纳米压印抗蚀剂包括以下组分：高支化低聚物，该高支化低聚物的质量百分比含量为50％～60％；全氟基聚乙醚，该全氟基聚乙醚的质量百分比含量为3％～5％；甲基丙烯酸甲酯，该甲基丙烯酸甲酯的质量百分比含量为5％～10％；以及有机稀释剂。 |
| 地址 |
100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |
