发明名称 喷射电沉积加工用阵列电极腔
摘要 一种喷射电沉积加工用阵列电极腔,其特征是它包括顶盖、腔体、套管、阵列电极、密封环、刚性挡环及收紧螺母,其中:顶盖与腔体螺纹连接,套管夹持阵列电极,阵列电极上依次串联弹性密封圈、挡环,腔体和螺帽之间设有螺纹连接。通过旋紧腔体和螺帽,使套管顶端收紧,实现对阵列电极的夹紧以及对弹性密封圈和挡环压紧,并通过挡环限制阵列电极伸出的截面形状。本发明可以在电极腔的底部形成任意截面形状和轮廓的阵列电极喷头,从而能够获得均匀的喷射电沉积加工电场和流场,提高电沉积电流密度,提高金属离子的局部浓度,防止电沉积中的氧化,最终提高电沉积效率和质量,通过设计不同形状的阵列电极腔及控制电极的导通,可以实现特殊结构电沉积零件加工。
申请公布号 CN102330125A 申请公布日期 2012.01.25
申请号 CN201110269330.7 申请日期 2011.09.13
申请人 南京航空航天大学 发明人 沈理达;邱明波;高雪松;王桂峰;刘志东;田宗军;黄因慧
分类号 C25D5/08(2006.01)I;C25D17/10(2006.01)I 主分类号 C25D5/08(2006.01)I
代理机构 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人 瞿网兰
主权项 一种喷射电沉积加工用阵列电极腔,其特征是它包括:    一顶盖(1),该顶盖(1)的一端与输送电解液的进液管相连,另一端带有外螺纹,它的中心设有供电解液通过的通孔;    一腔体(2),该腔体(2)的一端设有与前述的顶盖(1)的内螺纹相配的内螺纹,它的另一端的外部设有连接外螺纹,内部设有一个正锥台形内腔;一套管(3),该套管(3)的上端外表面呈锥形结构,该锥形结构插入前述腔体(2)的正锥台形内腔中,所述锥形结构的管壁上开有沿径向的收紧用槽口(8);一阵列电极(4),该阵列电极(4)由多根中空的薄壁棒状结构组成,中空的薄壁棒状结构的中间设有供电解液通过的通孔,所述阵列电极(4)的主体被夹紧于前述的套管(3)中;一密封环(5),该密封环(5)安装在套管(3)的端部及刚性挡环(6)之间,所述的密封环(5)和刚性挡环(6)的中心均设有供阵列电极(4)伸出的通孔,阵列电极的截面形状与刚性挡环(6)中心的通孔的形状相配;一收紧螺母(7),该收紧螺母(7)的一端通过内螺纹与腔体(2)上的外螺纹相连,它的另一端通过台阶体与前述刚性挡环(6)的台阶面相抵,从而将刚性台阶体(6)、密封环(5)和套管(3)固定在腔体(2)中。
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