发明名称 | 半导体光检测元件 | ||
摘要 | 准备n-型半导体基板(1),其具有彼此相对的第1主面(1a)及第2主面(1b),并且在第1主面(1a)侧形成有p+型半导体区域(3)。对n-型半导体基板(1)的第2主面(1a)上的至少与p+型半导体区域(3)相对的区域照射脉冲激光,形成不规则的凹凸(10)。在形成不规则的凹凸(10)之后,在n-型半导体基板(1)的第2主面(1a)侧,形成具有比n-型半导体基板(1)更高的杂质浓度的累积层11。在形成累积层11之后,对n-型半导体基板1进行热处理。 | ||
申请公布号 | CN102334197A | 申请公布日期 | 2012.01.25 |
申请号 | CN201080009099.1 | 申请日期 | 2010.02.15 |
申请人 | 浜松光子学株式会社 | 发明人 | 坂本明;饭田孝;山本晃永;山村和久;永野辉昌 |
分类号 | H01L31/10(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/10(2006.01)I |
代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
主权项 | 一种半导体光检测元件,其特征在于:具备:硅基板,具有由第1导电类型的半导体区域与第2导电类型的半导体区域所形成的pn结,在所述硅基板上,在该硅基板的一个主面侧形成有第1导电类型的累积层,并且在所述一个主面上的至少与所述pn结相对的区域上形成有不规则的凹凸,所述硅基板的所述一个主面上的与所述pn结相对的所述区域光学性露出。 | ||
地址 | 日本静冈县 |