发明名称 | 用于附着基板的设备及其间隙控制单元 | ||
摘要 | 本发明公开了一种用于附着基板的设备,该设备包括用于支撑第一基板的第一腔室以及用于支撑第二基板的第二腔室。主密封件设置于第一腔室与第二腔室之间以保持腔室之间的密封和间隙。对准控制部设置于第一腔室与第二腔室之间以便保持密封,并且还使第二腔室相对于第一腔室移动以对准基板。该对准控制部还可控制腔室之间的间隙,从而保持基板之间的均匀间隙。 | ||
申请公布号 | CN101813855B | 申请公布日期 | 2012.01.25 |
申请号 | CN201010144629.5 | 申请日期 | 2007.10.24 |
申请人 | 爱德牌工程有限公司 | 发明人 | 崔凤焕;沈锡希 |
分类号 | G02F1/1339(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1339(2006.01)I |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 李辉 |
主权项 | 一种用于附着基板的设备,所述设备包括:主框架;第一腔室,安装于所述主框架上,所述第一腔室能够保持第一基板;第二腔室,安装于所述主框架上,所述第二腔室能够保持第二基板,所述第一腔室和所述第二腔室可以合在一起以形成密封附着空间;对准控制装置,位于所述第一腔室与所述第二腔室之间,包括:本体,位于所述第一腔室与所述第二腔室之间;主密封件,位于所述本体的第一侧上,能够保持所述本体和所述第一腔室之间的密封;第二密封件,位于所述本体的第二侧上,能够保持所述本体与所述第二腔室之间的密封;以及压缩控制装置,控制所述第二密封件的压缩量,从而所述主密封件和所述第二密封件的结合高度在所述本体周围的多个位置处可保持大致相同。 | ||
地址 | 韩国京畿道 |