发明名称 |
纳米压印抗蚀剂及采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法 |
摘要 |
本发明提供一种纳米压印抗蚀剂,该纳米压印抗蚀剂包括以下组分:高支化低聚物,全氟基聚乙醚,甲基丙烯酸甲酯,自由基引发剂以及有机稀释剂。本发明还提供采用该纳米压印抗蚀剂的纳米压印方法。本发明提供的纳米压印抗蚀剂,具有良好的流动性,粘度低,且能在较短的时间内聚合,聚合形成的图形有较好的脱模性能,较高的模量,较低的固化收缩率,有利于脱模的优点。本发明提供的纳米压印方法工艺简单,成本较低,获得的纳米图形的图保真度好,分辨率高。 |
申请公布号 |
CN101923283B |
申请公布日期 |
2012.01.25 |
申请号 |
CN200910108046.4 |
申请日期 |
2009.06.09 |
申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
发明人 |
朱振东;李群庆;张立辉;陈墨 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种纳米压印抗蚀剂,其特征在于:该纳米压印抗蚀剂包括以下组分:高支化低聚物,全氟基聚乙醚,甲基丙烯酸甲酯,自由基引发剂以及有机稀释剂,所述高支化低聚物的质量百分比含量为50%~60%。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园1号清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室 |