| 发明名称 | 高精度稀土抛光粉及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种高精度稀土抛光粉及其制备方法，其特征在于：D50粒径为0.50～1.80μm；且满足：D10≥0.5D50，D90≤2D50，D100≤3D50；本发明将硝酸镧铈或氯化镧铈镨溶液加入pH为4.5～5.5的草酸氨溶液，生成单分散的草酸镧铈或草酸镧铈镨沉淀，然后以将其作为晶种，制备所述高精度稀土抛光粉。采用本发明的方法获得的高精度稀土抛光粉，无需进行气流粉碎和精密分级，具有中位径粒小，粒度分布范围窄的特点，抛光粉的耐磨性和抛光精度稳定性容易控制，产品质量波动小。 | ||
| 申请公布号 | CN101475777B | 申请公布日期 | 2012.01.25 |
| 申请号 | CN200810043912.1 | 申请日期 | 2008.11.07 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | 发明人 | 高玮;陈曦;赵月昌;吴秋芳;杨筱琼 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人 | 罗大忱 |
| 主权项 | 高精度稀土抛光粉，其特征在于：D50粒径为0.50～1.80μm；且满足：D10≥0.5D50；D90≤2D50；D100≤3D50所述高精度稀土抛光粉为干燥的氟碳酸镧铈或氟碳酸镧铈镨在600～1200℃下焙烧4～8h后的产物。 | ||
| 地址 | 201613 上海市松江区繁华路81号 | ||