基于多用途酸性有机溶剂的微电子清洗组合物

摘要

本发明涉及一种用于清洗微电子或纳米电子设备的清洗组合物，该清洗组合物含有HF作为组合物中唯一的酸以及唯一的氟化物化合物；至少一种选自砜和硒砜的主要溶剂；至少一种具有金属离子络合或结合位点的多羟基烷基醇或芳基醇共溶剂；水；和任选的至少一种膦酸腐蚀抑制剂化合物，其中所述的清洗组合物中不含胺、碱和其他盐类。

主权项

一种用于清洗微电子或纳米电子设备的清洗组合物，该清洗组合物包含：HF，其为组合物中除膦酸腐蚀抑制剂外唯一的酸以及唯一的氟化物化合物，至少一种选自砜和硒砜的主要溶剂，至少一种具有金属离子络合或结合位点的多羟基烷基醇或芳基醇共溶剂，以及水，以及任选的至少一种膦酸腐蚀抑制剂化合物，所述的清洗组合物中不含胺、碱和其他盐类，且具有pH≤5.5。