发明名称 Transistor gate electrode having conductor material layer
摘要
申请公布号 EP2136404(B1) 申请公布日期 2012.01.25
申请号 EP20090012031 申请日期 2004.12.22
申请人 INTEL CORPORATION 发明人 MURPHY, ANAND;BOYANOV, BOYAN;DATTA, SUMAN;DOYLE, BRIAN, S.;JIN, BEEN-YIH;YU, SHAOFENG;CHAU, ROBERT
分类号 H01L29/10;H01L21/28;H01L21/8234;H01L21/8238;H01L29/49 主分类号 H01L29/10
代理机构 代理人
主权项
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