发明名称 一种在钛及其合金表面制备氟化钙涂层的方法和应用
摘要 本发明属于纳米材料技术领域,具体涉及一种在钛及钛合金基体表面制备氟化钙涂层的方法。该方法在含有钙离子和氟离子的电解液中,采用微弧氧化技术,直接在钛或钛合金表面一步法原位生成纳米氟化钙涂层。通过本发明的方法制得的纳米氟化钙涂层呈纳米结晶结构,且该氟化钙涂层与基体结合紧密,涂层物相主要由氟化钙和氧化钛组成,且该纳米氟化钙涂层浸泡在模拟体液中小于14天,即可诱导氟磷灰石在其表面沉积,具有良好的生物活性,可应用于生物医用材料等领域。
申请公布号 CN101914799B 申请公布日期 2012.01.25
申请号 CN201010225727.1 申请日期 2010.07.13
申请人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明人 胡红杰;刘宣勇;丁传贤
分类号 C25D11/26(2006.01)I 主分类号 C25D11/26(2006.01)I
代理机构 上海光华专利事务所 31219 代理人 许亦琳;余明伟
主权项 一种在钛及钛合金基体表面制备氟化钙涂层的方法,该方法在含有钙离子、氟离子和辅助电解质的电解液中,采用微弧氧化技术,直接在钛或钛合金表面一步法原位生成纳米氟化钙涂层;其中,所述电解液中,钙离子的浓度范围为0.01~0.5mol/L,氟离子的浓度范围为0.05~1mol/L,辅助电解质的浓度范围为0.01~2mol/L;所述辅助电解质选自氢氧化钠、氢氧化钾、甘油磷酸钠、硅酸钠、硝酸、草酸和乙酸中的一种或多种的组合;所述微弧氧化技术以钛或钛合金为阳极,不锈钢为阴极,采用直流脉冲电源对钛或钛合金进行微弧氧化处理,所述微弧氧化技术的参数为:电流密度0.1~5A/cm2、电压300~600V、频率500~2000Hz、占空比10~80%、微弧氧化时间为1~60min、制备过程电解液温度不超过60℃。
地址 200050 上海市长宁区定西路1295号