发明名称 一种新型硅片生产外延设备及其系统
摘要 本发明公开了一种应用于单晶薄膜的生产领域新型硅片生产外延设备及包含该设备的系统,该设备包括反应器、硅片载盘,反应器包括反应隔离罩,在反应隔离罩上方设置卤素灯组,在反应隔离罩下方设置传动轴,在反应器两端设置和反应隔离罩相连通的气体入口连接体、气体出口连接体,以上各部分均通过反应器框架固定,其中反应隔离罩为由石英玻璃制成的罩体,其内流动着反应气体,承载着硅片的载盘在传动轴的作用下进入反应隔离罩,在卤素灯组的照射下和反应气体反应在表面形成薄膜。本发明的设备能够在工业级硅或硅废料制得的衬底上外延一层单晶硅薄膜,在保证晶体硅太阳电池的高性能和稳定性基础上降低了生产加工成本。
申请公布号 CN102330147A 申请公布日期 2012.01.25
申请号 CN201010226105.0 申请日期 2010.07.14
申请人 郭志凯 发明人 晏小乐;郭志凯
分类号 C30B25/02(2006.01)I;C30B25/16(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 C30B25/02(2006.01)I
代理机构 北京市盛峰律师事务所 11337 代理人 李贺香
主权项 一种新型硅片生产外延设备,其特征在于:包括硅片载盘、外延反应室,所述的外延反应室内设置有外延反应器,所述的外延反应器包括传动轴、卤素灯组、反应隔离罩、气体入口连接体、气体出口连接体、反应器框架,所述的传动轴上至少有两个滚轮,所述的硅片载盘设置在所述的滚轮上,所述的反应隔离罩是一个两端分别设置有供所述硅片载盘通过的入口、出口、而其它部分均封闭的罩体;所述的传动轴设置在所述反应隔离罩下方、并固定在所述的反应器框架上,所述的反应隔离罩的底板在每个滚轮上方位置上开有一个窗口,所述的滚轮的顶部通过所述的窗口突出到所述的隔离罩内;所述的卤素灯组设置在所述反应隔离罩的上方,并安装在一个卤素灯组框架上,所述的卤素灯组框架固定连接在所述的反应器框架上,所述的气体入口连接体、气体出口连接体分别设置在所述外延反应器的两端、并固定连接在所述的反应器框架上,所述的气体入口连接体、气体出口连接体分别设有和所述的反应隔离罩内部连通的反应气体通道。
地址 美国华盛顿州贝里弗市长青街9671