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一种检测系统，系电性连接一示波器及一电源供应器，用以检测一待测晶片，其中该待测晶片电性连接于该示波器与该电源供应器，该检测系统包括：一判断装置；以及一电波测试装置，系与该判断装置电性连接，用以发出一第一指令至该示波器，以使该示波器量测该待测晶片所产生之一第一电磁波，以撷取该第一电磁波之一电波值，并回传该电波值至该检测系统，以使该判断装置根据该电波值判断该待测晶片是否异常。如申请专利范围第1项所述之检测系统，其中该检测系统系与该待测晶片电性连接，并且该检测系统更包括一更新装置，用以传输一韧体档案至该待测晶片，以该使待测晶片进行一更新动作，并于该更新动作执行完毕后，回传一讯号至该检测系统，以告知该检测系统该更新动作是否执行成功。如申请专利范围第2项所述之检测系统，其中该检测系统更包括一感测装置，用以当一第二电磁波传递至该待测晶片时，感测该待测晶片是否有一感应电流产生，以判断该待测晶片功能是否正常。如申请专利范围第3项所述之检测系统，其中该检测系统更包括一频率测试装置，系与该判断装置电性连接，用以发出一第二指令至该示波器，以使该示波器撷取该待测晶片之一频率值，并回传该频率值至该检测系统，以使该判断装置根据该频率值判断该待测晶片是否异常。如申请专利范围第4项所述之检测系统，其中该检测系统电性连接一资料撷取装置，并且该检测系统更包括一电压测试装置，系与该判断装置电性连接，用以发出一第三指令至该资料撷取装置，以使该资料撷取装置撷取该待测晶片之一电压值，并回传该电压值至该检测系统，以使该判断装置根据该电压值判断该待测晶片是否异常。如申请专利范围第5项所述之检测系统，其中该检测系统更包括一电流测试装置，系与该判断装置电性连接，用以量测该电源供应器所提供予该待测晶片之一电流，以撷取该电流之一电流值，并回传该电流值至该检测系统，以使该判断装置根据该电流值判断该待测晶片是否异常。如申请专利范围第1项所述之检测系统，其中该检测系统更包括一感测装置，用以当一第二电磁波传递至该待测晶片时，感测该待测晶片是否有一感应电流产生，以判断该待测晶片功能是否正常。如申请专利范围第1项所述之检测系统，其中该检测系统更包括一频率测试装置，系与该判断装置电性连接，用以发出一第二指令至该示波器，以使该示波器撷取该待测晶片之一频率值，并回传该频率值至该检测系统，以使该判断装置根据该频率值判断该待测晶片是否异常。 |
