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一种制造光学元件的方法，包含：提供复制工具，该复制工具包括：(I)负构造特征，被界定在该复制工具的复制侧面内，该负构造特征界定该光学元件的形状，和(Ⅱ)周围特征，被形成在该复制工具的该复制侧面内且邻接该负构造特征，该周围特征是围绕该负构造特征的边缘；在基板和该复制工具之间的配置位置处设置预定体积的复制材料；将该复制工具和该基板朝向彼此地运动，直到：(I)该复制材料接触该基板和该复制工具两者，和(Ⅱ)该复制材料从该配置位置处向外流动；当该边缘被保持离该基板一段距离时，使该复制材料的该向外流动停止在该边缘，以将该复制材料局限在该基板的预定区域，其中，该复制材料的该向外流动基于下列因素而停止在该边缘：(I)被分配之复制材料的该预定体积，和(Ⅱ)作用在该复制工具之该边缘的毛细作用力至少其中之一或该复制材料的表面张力，其中接触该复制工具之该复制材料的部份不会流动超过该边缘；和将该复制材料硬化，以由附接至该基板的该复制材料形成该光学元件。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，其中该预定区域超过该光学元件的区域。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，另外包含：当对着该基板而运动该复制工具时，藉由作用在该复制工具之该边缘的毛细作用力和该复制材料的该表面张力两者，来控制该复制材料的该流动。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，其中该复制材料的该预定体积大致是该负构造特征的体积。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，另外包含：依据待施加在该配置位置处之该复制材料的该预定体积来预先决定该周围特征的尺寸。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，其中该复制工具包括形成在该复制工具内且围绕该负构造特征的脊部，该边缘是该脊部的边缘。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，其中该负构造特征至少在一横侧方向被平坦区段限制，内部边缘被形成在该负构造特征和该平坦区段之间，该复制工具的该复制侧面另外包括至少一溢流体积，外部边缘被形成在该平坦区段和该溢流体积之间，且其中该复制材料的该预定体积大于该负构造特征的体积，以致接触该复制工具之该复制材料的该向外流动不会流动超过该外部边缘，且被局限在该基板的该预定区域。如申请专利范围第7项之制造光学元件的方法，其中该平坦区段相对于该负构造特征的中心轴线不对称。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，其中该周围特征包括被界定在该工具内的复数阶梯特征，每一阶梯特征包括边缘，该边缘适于停止接触该复制工具之该复制材料的该向外流动，使得该向外流动不会流动超过该边缘，以将该复制材料局限在该基板的该预定区域。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，其中该复制工具界定复数负构造特征，每一负构造特征界定复数光学元件之一光学元件的形状。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，另外包含：在该复制材料被硬化以后，移除该复制工具；和将该基板分离成复数不连接的区段。如申请专利范围第11项之制造光学元件的方法，另外包含沿着切割线分离该基板，该等切割线由没有任何复制材料之该基板的横侧位置所界定。如申请专利范围第1项之制造光学元件的方法，其中该复制材料的该预定体积大于该负构造特征的体积。 |
