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Ein filmbildendes Verfahren für einen Antireflex-Film, der einen ersten auf Indiumoxid basierenden dünnen Film und einen zweiten auf Indiumoxid basierenden dünnen Film, der auf dem ersten auf Indiumoxid basierenden dünnen Film laminiert ist, hat, umfassend einen ersten filmbildenden Schritt, der durch Durchführen von Sputtern unter Verwendung eines ersten auf Indiumoxid basierenden Targets in einem ersten reaktiven Gas, das eine, zwei oder drei Arten ausgewählt aus einer Gruppe bestehend aus Sauerstoffgas, Wasserstoffgas und Wasserdampf, enthält, den ersten auf Indiumoxid basierenden dünnen Film bildet; und einen zweiten filmbildenden Schritt, der durch Durchführen von Sputtern unter Verwendung eines zweiten auf Indiumoxid basierenden Targets in einem zweiten reaktiven Gas, das eine, zwei oder drei Arten ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Sauerstoffgas, Wasserstoffgas und Wasserdampf, enthält und eine gegenüber dem ersten reaktiven Gas unterschiedliche Zusammensetzung hat, auf dem ersten auf Indiumoxid basierenden dünnen Film den zweiten auf Indiumoxid basierenden dünnen Film bildet.
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