Elektrode zur Erzeugung eines Plasmas, Plasmakammer mit dieser Elektrode und Verfahren zur in situ-Analyse oder -in situ-Bearbeitung einer Schicht oder des Plasmas

摘要

Die Erfindung betrifft eine rf-Elektrode für die Erzeugung eines Plasmas in einer Plasmakammer, gekennzeichnet durch eine optische Durchführung. Die Erfindung betrifft ferner eine Plasmakammer, umfassend eine rf-Elektrode und eine Gegenelektrode mit einem Substrathalter zur Aufnahme eines Substrats, wobei zwischen der rf-Elektrode und der Gegenelektrode ein Hochfrequenzwechselfeld zur Erzeugung des Plasma ausgebildet werden kann. Die Kammer ist gekennzeichnet durch eine rf-Elektrode mit einer optischen Durchführung. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur in situ-Analyse oder in situ-Bearbeitung einer Schicht oder eines Plasmas in einer Plasmakammer, wobei die Schicht auf einer Gegenelektrode angeordnet ist und auf der der Schicht zugewandten Seite eine rf-Elektrode angeordnet ist. Das Verfahren ist gekennzeichnet durch die Wahl einer rf-Elektrode mit einer optischen Durchführung, und durch mindestens einen Schritt, bei dem elektromagnetische Strahlung zum Zweck der Analyse oder der Bearbeitung der Schicht oder des Plasmas durch die optische Durchführung geleitet wird, und durch mindestens einen weiteren Schritt, bei der die gestreute oder emittierte oder reflektierte Strahlung einem Analysegerät zugeführt wird.