发明名称 Verfahren zur Herstellung eines Gitters und Phasenkontrast-Röntgensystem
摘要 Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines Gitters, insbesondere eines Absorptionsgitters, mit einer Gitterkonstante von weniger als 100 μm, unter Verwendung einer Lösung aus superparamagnetischen kolloidalen Nanokristall-Clustern (CNCs), einer Lösemittelflüssigkeit und einem belichtungsaushärtbarem Harz, mit folgenden Schritten: – Ausrichten der CNCs in der Lösung mittels eines externen Magnetfelds, – Belichten der Lösung, so dass das Harz aushärtet und dass Gitterstrukturen einer vorgesehenen Gitterkonstante entstehen, und – Entfernen des Magnetfeldes, beschrieben.
申请公布号 DE102010027596(A1) 申请公布日期 2012.01.19
申请号 DE201010027596 申请日期 2010.07.19
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 HOHEISEL, MARTIN, DR.
分类号 G03F7/20;B81B1/00;B82B3/00;G21K1/06 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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