发明名称 | 基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法,具体步骤为将掩模图形M栅格化为N×N个子区域;并根据部分相干光源的形状将光源面进行栅格化成多个点光源,用每一栅格区域中心点坐标(xs,ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标;计算各点光源对应像面上掩膜空间像I(αs,βs);并根据阿贝Abbe方法,对各点光源的掩模空间像I(αs,βs)进行叠加,获取部分相干光源对应像面位置掩膜空间像I。本发明能够将光源面栅格化成多个点光源,针对于各点光源其计算的掩膜空间像的精确度高,该方法可适应不同面形的光源。 | ||
申请公布号 | CN102323722A | 申请公布日期 | 2012.01.18 |
申请号 | CN201110268282.X | 申请日期 | 2011.09.09 |
申请人 | 北京理工大学 | 发明人 | 李艳秋;董立松;马旭 |
分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人 | 李爱英;杨志兵 |
主权项 | 一种基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法,其特征在于,具体步骤为:步骤101、将掩膜图形M栅格化为N×N个子区域;步骤102、根据部分相干光源的形状将光源面栅格化成多个点光源,用每一栅格区域中心点坐标(xs,ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标;步骤103、针对单个点光源,利用其坐标(xs,ys)获取该点光源照明时对应晶片位置上的空间像I(αs,βs);步骤104、判断是否已经计算出所有点光源对应晶片位置上的空间像,若是,则进入步骤105,否则返回步骤103;步骤105、根据阿贝Abbe方法,对各点光源对应的空间像I(αs,βs)进行叠加,获取部分相干光源照明时,晶片位置上的空间像I。 | ||
地址 | 100081 北京市海淀区海淀区中关村南大街5号 |