发明名称 基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法
摘要 本发明提供一种基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法,具体步骤为将掩模图形M栅格化为N×N个子区域;并根据部分相干光源的形状将光源面进行栅格化成多个点光源,用每一栅格区域中心点坐标(xs,ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标;计算各点光源对应像面上掩膜空间像I(αs,βs);并根据阿贝Abbe方法,对各点光源的掩模空间像I(αs,βs)进行叠加,获取部分相干光源对应像面位置掩膜空间像I。本发明能够将光源面栅格化成多个点光源,针对于各点光源其计算的掩膜空间像的精确度高,该方法可适应不同面形的光源。
申请公布号 CN102323722A 申请公布日期 2012.01.18
申请号 CN201110268282.X 申请日期 2011.09.09
申请人 北京理工大学 发明人 李艳秋;董立松;马旭
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京理工大学专利中心 11120 代理人 李爱英;杨志兵
主权项 一种基于Abbe矢量成像模型获取掩膜空间像的方法,其特征在于,具体步骤为:步骤101、将掩膜图形M栅格化为N×N个子区域;步骤102、根据部分相干光源的形状将光源面栅格化成多个点光源,用每一栅格区域中心点坐标(xs,ys)表示该栅格区域所对应的点光源坐标;步骤103、针对单个点光源,利用其坐标(xs,ys)获取该点光源照明时对应晶片位置上的空间像I(αs,βs);步骤104、判断是否已经计算出所有点光源对应晶片位置上的空间像,若是,则进入步骤105,否则返回步骤103;步骤105、根据阿贝Abbe方法,对各点光源对应的空间像I(αs,βs)进行叠加,获取部分相干光源照明时,晶片位置上的空间像I。
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