发明名称 一种正压运行等压腔体
摘要 一种正压运行等压腔体主要包含有;入口管道,出口管道,待处理腔室,已处理腔室,腔体,压力传感器,运行泵,其特征在于:压力传感器安装在待处理腔室上,或压力传感器安装在运行泵至待处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。本实用新型由于在流体处理设备运行泵至待处理腔室及与待处理腔室相连的管路和设备所形成的等压腔室上安装有压力传感器,使得正压式运行的流体处理设备,可利用安装在该等压区域腔室上的压力传感器实现流体处理设备的压力保护及相关设备操作运行,合理的控制流体处理设备正常运行、反冲、排污之间的间隔时间,并对节约设备的运行成本,提高设备的自动化程度,及时恢复设备的处理效果有其广泛的作用。
申请公布号 CN202116335U 申请公布日期 2012.01.18
申请号 CN201120163604.X 申请日期 2011.05.21
申请人 冯军 发明人 冯军;李永杰;辛荣光
分类号 C02F1/00(2006.01)I 主分类号 C02F1/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种正压运行等压腔体主要包含有;入口管道,出口管道,待处理腔室,已处理腔室,腔体,压力传感器,运行泵,其特征在于:压力传感器安装在待处理腔室上,或压力传感器安装在运行泵至待处理腔室所形成的等压腔室区域的任意位置上。
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