RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION,申请号EP20100750956-传众专利搜索

发明名称	RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
摘要
申请公布号	EP2406686(A1)	申请公布日期	2012.01.18
申请号	EP20100750956	申请日期	2010.03.12
申请人	FUJIFILM CORPORATION	发明人	TSUBAKI, HIDEAKI;SHIRAKAWA, KOJI;YATSUO, TADATERU;TSUCHIHASHI, TORU;TSUCHIMURA, TOMOTAKA
分类号	G03F7/039;C08F12/22;G03F7/004;H01L21/027	主分类号	G03F7/039
代理机构		代理人
主权项
地址