| 发明名称 | 涂胶工艺的缺陷监控方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种涂胶工艺的缺陷监控方法，包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上喷涂有机溶剂；在所述半导体衬底上旋涂光刻胶；在旋涂光刻胶之后，曝光之前，对所述光刻胶进行缺陷扫描。本发明有利于提高发现缺陷的概率，减少或避免漏扫。 | ||
| 申请公布号 | CN102323718A | 申请公布日期 | 2012.01.18 |
| 申请号 | CN201110218730.5 | 申请日期 | 2011.08.01 |
| 申请人 | 上海先进半导体制造股份有限公司 | 发明人 | 吕其尧;姜楠;徐建卫 |
| 分类号 | G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陆嘉 |
| 主权项 | 一种涂胶工艺的缺陷监控方法，其特征在于，包括：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上喷涂有机溶剂；在所述半导体衬底上旋涂光刻胶；在旋涂光刻胶之后，曝光之前，对所述光刻胶进行缺陷扫描。 | ||
| 地址 | 200233 上海市徐汇区虹漕路385号 | ||