发明名称 流体喷射装置
摘要 流体喷射装置以及用于形成这种装置的方法,流体喷射装置包括具有空腔的基板、形成在基板上的反电极、形成在基板上的促动膜、形成在基板上的顶层以及形成在顶层内的喷嘴。用于形成这种流体喷射装置的方法包括在基板内形成空腔,在基板上形成反电极,在基板上形成促动膜,在基板上形成顶层,以及在顶层内形成喷嘴。
申请公布号 CN1781711B 申请公布日期 2012.01.18
申请号 CN200510127019.3 申请日期 2005.11.29
申请人 施乐公司 发明人 J·陈;P·林;N·Y·贾
分类号 B41J2/015(2006.01)I;B41J2/135(2006.01)I 主分类号 B41J2/015(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 黄力行
主权项 一种流体喷射装置,包括:具有空腔的基板,所述空腔形成在所述基板内并且具有10微米到100微米的深度;所述空腔包括由喉状段部分地分开的流体喷射段和微通道段;形成在所述基板上的介质层;形成在所述介质层上方的反电极,所述反电极至少部分地位于所述空腔内;形成在所述基板上的促动膜,所述促动膜定位成用于封闭所述反电极;形成在所述基板上的顶层,所述顶层定位成用于覆盖所述空腔;以及形成在所述顶层内的喷嘴。
地址 美国康涅狄格州