发明名称 |
多晶硅生产方法及其装置 |
摘要 |
本发明涉及太阳能光伏技术领域,公开了一种多晶硅生产方法及其装置。本发明中,包含两条工艺线,工艺线I:SiCl4和H2按一定摩尔配比,生成硅Si和氯化氢HCl;工艺线II:SiHCl3和H2按一定摩尔配比,生成Si、HCl和SiCl4。由于直接利用副产物SiCl4作为生产原料,降低了多晶硅生产原料成本,同时解决了多晶硅生产副产物SiCl4处理费用高,难度大等问题,进一步有效降低了多晶硅生产厂家的生产成本。而且,当硅棒的直径达到预设门限Do时,切换到第二条工艺线,有效降低了多晶硅生产电耗,进一步地,有效增加了硅棒生长直径,提高多晶硅生产效率。 |
申请公布号 |
CN102321916A |
申请公布日期 |
2012.01.18 |
申请号 |
CN201110278731.9 |
申请日期 |
2011.09.19 |
申请人 |
上海森松新能源设备有限公司 |
发明人 |
李严州;周劲松;茅陆荣;张华芹;周积卫 |
分类号 |
C30B28/14(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I |
主分类号 |
C30B28/14(2006.01)I |
代理机构 |
上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 |
代理人 |
卢刚 |
主权项 |
一种多晶硅生产方法,其特征在于,包含以下步骤:将SiCl4和H2按预设的第一摩尔配比比例反应得到Si和HCl,得到的所述Si沉积在硅芯电极上,反应所需的温度通过启动加热所述硅芯电极得到;当所述硅芯电极上的Si沉积至硅棒的直径达到预设门限Do时,停止所述SiCl4和H2的反应,利用所述硅芯电极的残余温度,将SiHCl3和H2按预设的第二摩尔配比比例反应得到Si、HCl和SiCl4,由SiHCl3和H2反应得到的Si继续沉积在所述硅芯电极上。 |
地址 |
201323 上海市浦东新区祝桥镇空港工业区金闻路29号-1 |